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大面積微納結(jié)構(gòu)制造的科研發(fā)展(上篇)

時間:2025-02-06 02:42:54 作者:147小編 點擊: 次

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【納米尺度-- 納米結(jié)形成形新辦法

納米尺度制造是基于理學(xué)/化學(xué)/生物原理的制造辦法,重點科研納米結(jié)構(gòu)生長、加工、改性、組裝等納米制造新辦法與新工藝,以及納米尺度制造過程中結(jié)構(gòu)與器件的性能演變規(guī)律。近年來,我國重點著眼于基于理學(xué)/化學(xué)/生物等原理的納米尺度制造理論辦法、技術(shù)與應(yīng)用探索科研,發(fā)展了以納米壓印、納米切削等辦法為核心的納米尺度制造工藝,并取得了有些可喜的科研成果,初步形成為了納米尺度制造理論與辦法,明顯提高了制造學(xué)科的科研水平,為高精度傳感器、有效率微能源、集成微納系統(tǒng)、后摩爾時代電子器件和集成電路的科研和應(yīng)用奠定了基本。

【微納3D直寫技術(shù)】

科研人員提出了基于結(jié)構(gòu)光場的微納3D直寫原理與辦法,采用位相光+空間光調(diào)制、高速率數(shù)據(jù)刷新的結(jié)構(gòu)光場技術(shù),可實此刻任意型面上寫入任意繁雜結(jié)構(gòu),突破了傳統(tǒng)干涉系統(tǒng)只能制造周期結(jié)構(gòu)的重大困難和技術(shù)瓶頸,特征結(jié)構(gòu)接近 λ/4,355nm 波長下可實現(xiàn)100nm—10μm 周期連續(xù)可調(diào)的微納結(jié)構(gòu),且結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)分辨率達到亞納米量級,寫入速度>3000mm /min,是電子束光刻速率的1000倍以上,是擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的納米結(jié)構(gòu)有效制備的創(chuàng)新辦法,實現(xiàn)了大面積納米結(jié)構(gòu)的可控、快速和高精度制備,如圖1,采用自主發(fā)明的空間位相聯(lián)合調(diào)制光學(xué)系統(tǒng),支持納米和微米結(jié)構(gòu)混合直寫,突破了高精度米級幅面雙驅(qū)龍門結(jié)構(gòu)研制、飛行同步揭發(fā)掌控、3D導(dǎo)航自動聚焦等關(guān)鍵技術(shù)。

圖 1 結(jié)構(gòu)場微納3D直寫原理與辦法

【納米混合印刷技術(shù)】

科研人員發(fā)明了功能結(jié)構(gòu)的“納米壓?。霾奶畛洹睆?fù)合制造工藝,實現(xiàn)了微金屬網(wǎng)格型透明導(dǎo)電膜(電極)、嵌入電子器件、柔性傳感器的創(chuàng)新制造。為處理微納米結(jié)構(gòu)腔體功能材料填充不均的困難,提出了電場輔助納米刮涂填充技術(shù),利用電潤濕降低材料填充過程中的邊緣效應(yīng)和界面能量壁壘,實現(xiàn)了多種功能材料在高深寬比微納米結(jié)構(gòu)腔身體靠譜填充,闡明了電場輔助的型腔刮涂填充機理。采用“納米壓?。霾奶畛洹奔夹g(shù)制備的透明電容觸控屏,已進入產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,實現(xiàn)了無蝕刻大尺寸透明電極和柔性電路的綠色制造,顛覆了柔性電路需要蝕刻工藝的傳統(tǒng)思路。其中8--70寸透明電容觸控屏已批量應(yīng)用,8--70寸基于納米銀微網(wǎng)格的透明電容觸控屏和基于微納結(jié)構(gòu)超薄導(dǎo)光膜已批量應(yīng)用,制品被美國、歐盟和日本著名品牌(亞馬遜、宏基、IYAMA、微軟Surface、HP、Sharp等)采用;推出的智能信息交互終端威訊寶VisionBoard(55寸、110寸雙屏),實現(xiàn)了視頻會議、上網(wǎng)、電視、白板、演示和娛樂等全功能特征。

【大幅面滾壓印制造辦法與技術(shù)】

卷對卷滾壓印制造技術(shù)是一種簡單、低成本、高通量復(fù)制微納米尺度圖形的有效制造方式,正逐步作為可替代傳統(tǒng)光刻制造的納米制造技術(shù),科研人員圍繞卷對卷滾壓印制造技術(shù)的高精度微納尺度壓印模具、壓印過程中的動力學(xué)分析等方面開展了一系列科研工作,為微納結(jié)構(gòu)的高通量、工業(yè)規(guī)?;圃斓膶崿F(xiàn)供給了一種新途徑,滿足了半導(dǎo)體和電子行業(yè)最新的發(fā)展需要科研人員進行了柔性基底上納米結(jié)構(gòu)及器件的批量制造工藝驗證,開發(fā)了UV 納米柔性壓印拼接辦法與系統(tǒng),幅面達800 mm×600 mm,為大面積納米模具的制備供給了新思路和處理辦法,實現(xiàn)了50nm—30μm范圍的制造工藝。該工藝在大尺寸透明導(dǎo)電膜等材料上得到了應(yīng)用,縮短了納米制造通向應(yīng)用的距離。

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